先进微纳工艺中心的加工能力覆盖微纳制造的全流程，分为光刻与勾胶、刻蚀与去胶、薄膜沉积、键合与退火、湿法处理以及检测六个大类。下面列出大致收费内容，具体收费标准请下方下载《2026年先进微纳工艺中心收费标准》文件。
光刻与勾胶：支持4/6英寸单双面曝光，双面对准曝光900元/30分钟，单面曝光600元/30分钟；厚胶工艺按厚度递增收费，80μm厚胶曝光1200元/30分钟；手动勾胶150~225元/30分钟，自动勾胶375元/30分钟。
刻蚀与去胶：深硅刻蚀按深度阶梯计价，小于100μm为780元/30分钟，超过300μm为1600元/30分钟；介质层或金属刻蚀均为800元/30分钟；等离子去胶最低仅需75元/15分钟。
薄膜沉积：磁控溅射780元/30分钟，贵金属（如金、铂）溅射材料费10.92元/nm，一般金属溅射材料费仅1.3元/nm；电子束蒸发520元/30分钟，电子束蒸发中贵金属材料费49.4元/nm，一般金属仅2.6元/nm。
湿法与电化学：盲孔铜沉积2600元/片；普通铜电镀按厚度计，大于20μm按1.3元/μm收取；RCA标准清洗41.25元/30分钟，开机费需1155元/次。
检测：膜厚测试90元/30分钟，台阶仪300元/30分钟，高分辨扫描电镜SEM与能谱EDS联用525元/30分钟。
